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潔凈室設(shè)計(jì)中的幾點(diǎn)熱門問題

時(shí)間:2009/8/2閱讀:1181
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對(duì)當(dāng)前較被關(guān)心的問題,如潔凈室的氣流速度的確定,FFU系統(tǒng)的應(yīng)用及懸浮分子污染控制,進(jìn)行情況歸納和分析。

.前言

潔凈室的氣流速度/換氣次數(shù),一直是潔凈室設(shè)計(jì)中受到關(guān)注的問題,隨著潔凈室污染源的控制效果增加及末級(jí)過濾器效率的提高等,對(duì)有關(guān)規(guī)范、導(dǎo)則等提出的推薦或參考值是否偏于保守,已有不少討論;FFU在應(yīng)用中人們擔(dān)心的噪音、損壞維修等問題已在實(shí)踐中得到解決,隨著FFU的不斷改進(jìn),對(duì)是否采用FFU回風(fēng)系統(tǒng)也是個(gè)熱點(diǎn):懸浮分子污染(AMC)的控制在微電子及IC工業(yè)中已日益提到日程上來,受到關(guān)注。以下對(duì)這些問題的情況分別作歸納和分析。



.氣流速度

2.1有關(guān)推薦或參考值的應(yīng)用

潔凈室內(nèi)一定潔凈度下氣流速度的確定,隨潔凈室用途等具體情況而異,它不僅受室內(nèi)發(fā)塵量及過濾器效率還受其他因素影響,就工業(yè)潔凈室而言,影響潔凈度及選擇氣流速度的因素主要是:

(1)
室內(nèi)污染源:建筑物組件、人員數(shù)量及操作活動(dòng)、工藝設(shè)備、工藝材料及工藝加工本身等都是塵粒釋放源,根據(jù)具體情況而異,變化很大;

(2)
室內(nèi)氣流流型及分布:?jiǎn)蜗蛄饕缶鶆?、平等的流線,但會(huì)受到工藝設(shè)備布置和位置變動(dòng)及人員活動(dòng)情況等的干擾形成局部渦流;而非單向流要求充混合,避免死角及溫度分層;

(3)
自凈時(shí)間(恢復(fù)時(shí)間)的控制要求:潔凈室中事故釋放或帶入污染物或空氣氣流的中斷或正常操作時(shí)的間歇性對(duì)流氣流或人及設(shè)備的移動(dòng)等都會(huì)造成潔凈度的惡化,恢復(fù)到原來潔凈度的自凈時(shí)間決定于氣流速度;對(duì)自凈時(shí)間的控制要求取決于此時(shí)間框架內(nèi)(惡化的潔凈度下),對(duì)產(chǎn)品生產(chǎn)的質(zhì)量及成品率影響的承受能力;

(4)
末級(jí)過濾器的效率:在一定的室內(nèi)發(fā)塵量下,可采用較率的過濾器以降低氣流速度;為節(jié)能應(yīng)考慮采用較率的過濾器,并降低氣流速度,或采用較低效率的過濾器并采用較高的氣流速度,以求流量與阻力的乘積zui?。?span lang="EN-US">

(5)
經(jīng)濟(jì)性考慮:過大的氣流速度造成投資及運(yùn)行費(fèi)用的增加,合適的氣流速度為以上諸因素合理的綜合,過大往往不必要,亦不一定有效果;

(6)
對(duì)潔凈度要求低的潔凈室,有時(shí)換氣次數(shù)決定于室內(nèi)排熱的要求。

以上因素,皆很難量化,只能分析對(duì)比并估計(jì)。因此在工程應(yīng)用中,對(duì)潔凈室的氣流速度往往參照有關(guān)規(guī)范、導(dǎo)則等的推薦或參考值,再按具體情況估計(jì)以上各影響因素進(jìn)行綜合考慮后確定。

氣流速度用于單向流潔凈室;非單向流潔凈室宜用換氣次數(shù),因?yàn)槠錃饬魉俣入y于測(cè)準(zhǔn);亦有用末級(jí)過濾滿布率來反映的,可用于各種氣流流型的潔凈室,一般滿布率相對(duì)于流速0.5m/s100fpm),25%相對(duì)于0.125m/s25fpm)。當(dāng)前有關(guān)規(guī)范、導(dǎo)則等的推薦或參考值見表1。

 



此主題相關(guān)圖片如下:

1中有關(guān)氣流速度和換氣次數(shù)的推薦或參考值,應(yīng)該說是經(jīng)驗(yàn)的反映。如ISO/DIS 14664-4提出的數(shù)值皆明確適用于那類潔凈室的;IEST的推薦值亦是被一些機(jī)構(gòu)認(rèn)為僅適用于半導(dǎo)體工廠。由于具體情況變化較大,有的經(jīng)驗(yàn)值可能已不適合當(dāng)前的室內(nèi)塵源控制措施及過濾器效率提高的情況。

2.2
對(duì)有關(guān)推薦或參考值的討論

近年來不少人通過實(shí)驗(yàn)認(rèn)為這些推薦或參考值過于保守,其論點(diǎn)可歸納為:

(1)
潔凈室內(nèi)氣流的橫向擴(kuò)散只在甚低的流速下才有可能,單向流在合理的氣流組織下,流速0.050.1m/s就足夠帶走污染物,在此流速下亞微米粒子的擴(kuò)散性能遠(yuǎn)低于對(duì)流性能;而大于0.36m/s的氣流速度反而易千百萬(wàn)渦流,引起污染物的再卷入。因此,潔凈室的理想自凈時(shí)間Tr=體積/流率,到一定值后由于污染物的再卷入,再增大氣流速度,實(shí)際的Tr并不再有明顯的減少。

(2)
末級(jí)過濾器的效率對(duì)潔凈度的影響是值得起注意的。有的氣流速度/換氣次數(shù)推薦或參考值對(duì)末級(jí)過濾器效率提高的因素往往沒作考慮。當(dāng)前HEPA/ULPA的效率從99.67%、99.99%99.999%、99.9995%直至8個(gè)9以上都可選擇。其效率對(duì)氣流速度的影響除以上已提及外,以下方面亦值得引起注意,在非單向流情況下,按衡釋原理的潔凈室內(nèi)含塵濃度穩(wěn)定公式可以得出:

(a)
室內(nèi)發(fā)塵量較高時(shí),末級(jí)過濾器效率的變化對(duì)潔凈度影響甚微,因此在這種情況下,過高的過濾效率是無必要的。

(b)
室內(nèi)發(fā)生塵量較低的情況下,采用低的氣流速度下,末級(jí)過濾器效率的變速器變化,對(duì)潔凈度的影響增大。

以上情況可以引用的圖1a1c看出。



此主題相關(guān)圖片如下:

 

 

 

 

作圖有關(guān)數(shù)據(jù):

新風(fēng)進(jìn)末過濾器前的含塵濃度1.75×106個(gè)/m3

室內(nèi)發(fā)生量:G1=350個(gè)/m3.min

G2=3500
個(gè)/m3.min

G3=35000
個(gè)/m3.min

G4=350000
個(gè)/m3.min

新風(fēng)量對(duì)于全空氣量的比率 0.03

當(dāng)前有的IC工廠其ISO5級(jí)(0.3μm)的潔凈室,采用FFU系統(tǒng),ULPA(99.9995%,0.12μm),出口風(fēng)速為0.38m/s,其滿布率為25%,這樣室內(nèi)平均氣流速度為0.095m/s,在各有關(guān)推薦或參考值的下限下。此潔凈室的工藝加工在微環(huán)境內(nèi)潔凈室內(nèi)的人員亦較少,可以認(rèn)為潔凈室內(nèi)發(fā)生較低,這種情況下采用低的氣流速度可能是可取的。

據(jù)報(bào)道,目前IEST對(duì)潔凈室內(nèi)氣流速度推薦值的下限有所降低,如:

≤ISO5
級(jí):氣流速度0.20.5m/s

ISO6
級(jí)或5級(jí)(非單向流);換氣次數(shù)>200/h;

ISO7
級(jí):換氣次數(shù)20200/h;

ISO8
級(jí):換氣次數(shù)220/h;



.FFU系統(tǒng)的應(yīng)用

3.1當(dāng)前FFU的情況

FFU
在使用壽命及維護(hù)上已經(jīng)實(shí)踐證明無可擔(dān)心。當(dāng)前其改進(jìn)主要是:

(1)
采取均流及減少噪音的措施,噪音可在50db以內(nèi);

(2)
電動(dòng)機(jī)采用DC/EC(電子整流電機(jī)),以耗較原交流電機(jī)節(jié)約近50%,因?yàn)樾★L(fēng)機(jī)所用小容量(功率<1/2HP)的交流電機(jī),一般皆為電容分相式或隱極式,其效率僅40%左右,而DC/EC電機(jī)的效率可達(dá)7580%;在調(diào)速控制上可每臺(tái)單獨(dú)的以過濾器降壓進(jìn)行控制以節(jié)約能耗,但目前投資回收期尚長(zhǎng)而未廣泛采用,一般常用分組群控或全部群控。

(3)
FF瓣出口靜壓不能過大,一般采用出口風(fēng)速成0.38m/s,此時(shí)其靜壓一般在250Pa以內(nèi)。

3.2FFU
回風(fēng)系統(tǒng)與其他方式相比的優(yōu)點(diǎn)

3.2.1
一般評(píng)價(jià)

優(yōu)點(diǎn):

(1)
靈活性大,便于改造;

(2)
占用建筑物空間較少;

(3)
潔凈室內(nèi)空氣壓力大于回風(fēng)靜壓室,排除靜壓室對(duì)潔凈室污染的可能性。

缺點(diǎn):

(1)
要求回風(fēng)道全部阻力(包括多孔地板、格柵及風(fēng)道)、干表冷器阻力及末級(jí)過濾器的阻力(在初阻力時(shí)),總共應(yīng)控制在165Pa左右,以滿足運(yùn)行時(shí)zui大阻力在250Pa以內(nèi)。因此干表冷器的傳熱面積要較大,回風(fēng)道尺寸亦要較大,多孔地板及格柵等的阻力要小,一般作法是:控制干表冷器阻力在50Pa左右,回風(fēng)道阻力在15Pa以內(nèi),否則就需要再增設(shè)加壓風(fēng)機(jī)系統(tǒng),這就是降低了FFU系統(tǒng)的綜合優(yōu)點(diǎn)。

(2)
采用DC/EC電機(jī)后,單位風(fēng)量的能耗可能比當(dāng)前一般大型離心風(fēng)機(jī)的集中系統(tǒng)為低,但已有研究指出,比采用改進(jìn)后的大型軸流風(fēng)機(jī)的回風(fēng)系統(tǒng)的能耗還是要高。因此需要注意大型軸流風(fēng)機(jī)的效率提高及其系統(tǒng)的阻力降低的因素。

(3)
一般FFU系統(tǒng)由于單位風(fēng)量的能耗較大,因此潔凈室的冷負(fù)荷亦相應(yīng)增加。

3.2.2
具體情況下的評(píng)價(jià)

(1)FFU
用于老建筑物改造成潔凈室時(shí),其綜合經(jīng)濟(jì)性一般往往可取。

(2)
潔凈度要求嚴(yán)的潔凈室,末級(jí)過濾器滿布率時(shí),對(duì)大的系統(tǒng)采用FFU,當(dāng)前還是不經(jīng)濟(jì)的;對(duì)小系統(tǒng)有意義作具體比較。

(3)
對(duì)潔凈度要求不甚嚴(yán)的潔凈室,末級(jí)過濾器滿布率≤40%時(shí)對(duì)大系統(tǒng)綜合經(jīng)濟(jì)性往往相差不多,但對(duì)IC工廠而言FFU系統(tǒng)的靈活性是重要的,因此當(dāng)前IC工廠對(duì)過濾器滿布率≤40%時(shí),采用FFU系統(tǒng)已經(jīng)普遍。



.懸浮分子污染(AMC

4.1AMC
的分類及控制要求情況

AMC
作為IC工廠所關(guān)心的問題于20年前zui先由日本人提出,近年來,IC生產(chǎn)園片直徑已達(dá)φ300mm,工藝加工尺寸(線寬)已小于0.15μm,在某些加工工序及工序間園片的傳送和存放環(huán)境中AMC已成為嚴(yán)重影響成品率的問題,已被清楚的認(rèn)識(shí)到,因此,AMC的控制已由談?wù)撧D(zhuǎn)到需要實(shí)施。

對(duì)于IC生產(chǎn),AMC分為A、BC、D四類,即:

A——
酸性物質(zhì),如Hcl等;

B——
堿性物質(zhì),如NH3等;

C——
沸點(diǎn)高于室溫能在光潔表面冷凝的物質(zhì),主要是碳?xì)浠衔?,某些工藝加工環(huán)境中的水蒸汽亦需要考慮;

D——
摻雜物質(zhì),能為園片表面吸附或與表面相互反應(yīng)的物質(zhì),如砷、硼、磷等。

AMC
對(duì)當(dāng)前的IC生產(chǎn)其潛在的污染比粒子污染要廣泛多,粒子污染控制只要確定粒徑及個(gè)數(shù),但對(duì)AMC控制而言,除了受芯片線寬的縮小而變化外,并受工藝、工藝設(shè)備、工藝材料及園片傳送系統(tǒng)等的影響,更有甚者用于某一工序的各種工藝材料(化學(xué)品、特種氣體等)在很多情況下其微量的分子對(duì)下一工序往往可能是污染物,而園片加工工序當(dāng)前已多于300多個(gè)獨(dú)立工序,對(duì)AMC控制指標(biāo)的確定更是復(fù)雜。因此,IC生產(chǎn)對(duì)AMC的控制,對(duì)不同的產(chǎn)品、不同的工藝、不同的工序及不同的工藝材料會(huì)有不同的要求,對(duì)各種污染物質(zhì)的要求當(dāng)前總的說法是控制在亞pptm1000pptm間。

4.2AMC
控制的實(shí)施情況

對(duì)線寬0.25μmIC生產(chǎn),一般已常在新風(fēng)處理中設(shè)活性炭過濾器;有關(guān)關(guān)鍵工序以及工序間園片的傳送及存放,有的生產(chǎn)廠采取了AMC控制,有的生產(chǎn)廠則并未進(jìn)行控制,主要在于經(jīng)濟(jì)效果的衡量上,有關(guān)具體控制要求及措施報(bào)道甚少見,可能是由于保密的原因,但一點(diǎn)可以肯定,只能在局部環(huán)境內(nèi)進(jìn)行控制。

為滿足φ300mm園片,<0.15mm線寬的加工要求,近年來對(duì)AMC控制,重點(diǎn)在以下三方面開展工作:

(1)
的測(cè)量技術(shù)及標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方法的建立。因?yàn)檫@是掌握AMC控制的基礎(chǔ),必須先行;

(2)
按今后IC的生產(chǎn)要求,生產(chǎn)線的設(shè)備采用微環(huán)境隔離,各設(shè)備間園片的傳送采用前開式標(biāo)準(zhǔn)片盒(FOUPs)系統(tǒng),對(duì)園片進(jìn)行隔離。因此,早已對(duì)設(shè)備、FOUPs系統(tǒng)及微環(huán)境所用的材料要求不釋放及吸附有關(guān)懸浮分子污染物的問題以及對(duì)此污染物的去除措施進(jìn)行研發(fā),并不斷改進(jìn)中;

(3)
控制AMC的過濾器。

近年來尤其是近23年來,對(duì)控制AMC過濾器的開發(fā)及推出有少進(jìn)展;

A.
不釋放AMC物質(zhì)的HEPA/ULPA;

a.
低硼超細(xì)玻璃纖維過濾器,現(xiàn)已在亞洲及歐洲的IC廠使用較多;

b.
多孔聚四氟乙?。?span lang="EN-US">ePTFE
)過濾器,為薄膜結(jié)構(gòu),價(jià)格比a要高出十倍左右。目前使用尚不多,正在開發(fā)下一代的。

B.
化學(xué)過濾器

目前已推出的化學(xué)過濾器主要是:

a.
活性炭過濾器,大多數(shù)是晶粒狀的,有盤片式、蜂窩式等;亦已有活性炭纖維過濾器,具有吸附速度快的特點(diǎn),價(jià)格尚較高;還已有晶粒與纖維粘合的過濾器。

b
無紡合成織物上浸漬各種功能晶粒(如活性炭、活性鋁,但主要是活性炭)以吸附AMC物質(zhì)。

至今,據(jù)報(bào)道,φ300mm園片加工除二條試驗(yàn)生產(chǎn)線外,已有四條生產(chǎn)線(德國(guó)一條、美國(guó)一條、我國(guó)中國(guó)臺(tái)灣二條)開始運(yùn)轉(zhuǎn),對(duì)AMC的控制情況,當(dāng)然不詳,但潔凈室環(huán)境為ISO56級(jí),對(duì)潔凈室設(shè)計(jì)較簡(jiǎn)單些??梢钥吹?,今后IC生產(chǎn),其生產(chǎn)環(huán)境的污染控制重點(diǎn)必然轉(zhuǎn)到工藝設(shè)備及園片傳、存放系統(tǒng)的研發(fā)及制造上.

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